制藥廠廢氣治理設(shè)備主要包括以下幾種，它們各自針對不同的廢氣特性和處理需求：
　　活性炭吸附箱：
　　原理：利用多孔固體吸附劑（如活性碳、硅膠、分子篩等）處理有機(jī)廢氣，通過化學(xué)鍵力或分子引力吸附有害成分，從而凈化廢氣。
　　應(yīng)用范圍：適用于大風(fēng)量、低濃度（≤800mg/m?）、無顆粒物、無粘性物、常溫的低濃度有機(jī)廢氣凈化處理。
　　特點(diǎn)：凈化率高（活性炭吸附可達(dá)到95%以上），實(shí)用廣泛，操作簡單，投資低。但活性炭飽和后需更換，并需專業(yè)處理飽和后的活性炭，運(yùn)行費(fèi)用高。
　　燃燒設(shè)備：
　　原理：揮發(fā)性有機(jī)物在高溫及空氣充足的條件下進(jìn)行完全燃燒，分解為CO?和H?O。
　　分類：
　　直接燃燒設(shè)備：適用于排放濃度大于5000mg/m?的高濃度廢氣，燃燒溫度一般控制在1100℃，處理效率高，可達(dá)95%-99%。
　　熱力燃燒設(shè)備（RTO）：適用于處理濃度在1000-5000mg/m?的廢氣，溫度較直接燃燒低，大約為540-820℃。
　　催化燃燒設(shè)備（RCO）：在催化劑作用下，使有機(jī)廢氣在較低溫度下無火焰燃燒，氧化分解為CO?和H?O。
　　特點(diǎn)：凈化率高，但投資運(yùn)營成本也較高，且需要大面積場地。
　　UV光解凈化設(shè)備：
　　原理：利用紫外線光解技術(shù)處理廢氣中的有機(jī)物質(zhì)，將其分解為無害物質(zhì)。
　　特點(diǎn)：適用于中低濃度的有機(jī)廢氣處理，操作簡便，維護(hù)成本低。

　　低溫等離子體治理設(shè)備：
　　原理：利用低溫等離子體技術(shù)處理廢氣，通過高能電子與廢氣中的污染物分子發(fā)生非彈性碰撞，使污染物分子激發(fā)、電離、離解，從而去除廢氣中的有害物質(zhì)。
　　特點(diǎn)：處理效率高，但設(shè)備成本和維護(hù)成本可能較高。
　　PP噴霧塔廢氣處理設(shè)備：
　　原理：通過氣體與液體接觸，將廢氣中的污染物轉(zhuǎn)移到液體中，達(dá)到凈化目的。
　　特點(diǎn)：適用于處理含有酸性或堿性污染物的廢氣，操作簡便，維護(hù)成本低。
　　在選擇制藥廠廢氣治理設(shè)備時(shí)，應(yīng)根據(jù)廢氣特性、處理效率、投資成本、運(yùn)行費(fèi)用等因素綜合考慮，選擇Z適合的設(shè)備或組合使用多種設(shè)備以達(dá)到Z佳治理效果。